Filu di resistenza 30 CuNi2 in lega di nichel di rame di 0,005 mm
Cuntenutu chimicu:CuNi2 hè una lega di rame è nichel cun un cuntenutu chimicu di %.
Nome di u produttu:CuNi2/CuNi6/CuNi8/CuNi10/CuNi14/CuNi19/CuNi23/CuNi34/CuNi40/CuNi44/CuNi45/Lega di nichel di rame elettrica Prezzo Cu-CuNi Termocoppia Costantana Filu di resistenza
Parole chjave:Filu CuNi44 / Filu di rame è nichel / Filu di Constantan / Filu di Constantan / Prezzu di u filu di Constantan / Filu di resistenza in lega 30 / Filu di lega Cuprothal 5 / Filu di termocuppia di tipu T / Filu di rame / Lega 230 / filu elettricu / Filu di riscaldamentu Cu-Ni 2 /filu di lega di nichel di rame/filu di resistenza di riscaldamentu/elementu riscaldante/filu di riscaldamentu elettricu/filu di resistenza di nicromu/filu di nichel/filu di lega di nichel/Cuprothal 5
Attributi:[Tipu: Filu di rame], [Applicazione: Aria condizionata o frigorifero, Tubu d'acqua, Scaldacqua], [Materiale: Altru]
Ni | Mn | Fe | Si | Cu | Altru | Direttiva ROHS | |||
Cd | Pb | Hg | Cr | ||||||
2 | - | - | - | Bal | - | ND | ND | ND | ND |
Proprietà Meccaniche
Temperatura massima di serviziu cuntinuu | 200ºC |
Resistività à 20ºC | 0,05 ± 10% ohm mm2/m |
Densità | 8,9 g/cm3 |
Cunduttività termica | <120 |
Puntu di fusione | 1090ºC |
Resistenza à a trazione, N/mm2 ricottu, dolce | 140~310 Mpa |
Resistenza à a trazione, N/mm2 Laminatu à fretu | 280~620 Mpa |
Allungamentu (ricottura) | 25% (min) |
Allungamentu (laminatu à fretu) | 2% (min) |
EMF vs Cu, μV/ºC (0~100ºC) | -12 |
Struttura Micrografica | austenite |
Pruprietà Magnetica | Micca |
Lega di rame è nichel
Pruprietà principale | Cuni1 | CuNI2 | CuNI6 | CuNI10 | CuNi19 | CuNi23 | CuNi30 | CuNi34 | CuNI44 | |
Chimica principale cumpusizione | Ni | 1 | 2 | 6 | 10 | 19 | 23 | 30 | 34 | 44 |
MN | / | / | / | / | 0,5 | 0,5 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | |
CU | riposu | riposu | riposu | riposu | riposu | riposu | riposu | riposu | riposu | |
Temperatura massima di travagliu °C | / | 200 | 220 | 250 | 300 | 300 | 350 | 350 | 400 | |
Densità g/cm3 | 8.9 | 8.9 | 8.9 | 8.9 | 8.9 | 8.9 | 8.9 | 8.9 | 8.9 | |
Resistività à 20 °C | 0,03 ± 10% | 0,05 ±10% | 0.1 ±10% | 0,15 ±10% | 0,25 ±5% | 0.3 ±5% | 0,35 ±5% | 0,40 ±5% | 0,49 ±5% | |
Coefficiente di temperatura di resistenza | <100 | <120 | <60 | <50 | <25 | <16 | <10 | -0 | <-6 | |
Resistenza à a trazione Mpa | >210 | >220 | >250 | >290 | >340 | >350 | >400 | >400 | >420 | |
allungamentu | >25 | >25 | >25 | >25 | >25 | >25 | >25 | >25 | >25 | |
Puntu di fusione °C | 1085 | 1090 | 1095 | 1100 | 1135 | 1150 | 1170 | 1180 | 1280 | |
coefficiente di conducibilità | 145 | 130 | 92 | 59 | 38 | 33 | 27 | 25 | 23 |
U nostru filu di estensione è di compensazione per termocuppie hè cuncipitu per risponde à i bisogni specifichi di diverse applicazioni di misurazione di a temperatura. Offremu una gamma di tipi è gradi, ognunu cù a so propria cumbinazione unica di leghe metalliche chì definiscenu e so caratteristiche.
U tipu K hè a termocuppia più cumunamente aduprata per misurà alte temperature. Offre una larga gamma di temperature di funziunamentu da -200 °C à +1260 °C è hà una eccellente resistenza à l'ossidazione, rendendulu ideale per l'usu in atmosfere ossidanti o inerti. Tuttavia, deve esse prutettu da atmosfere sulfuree è marginalmente ossidanti. U filu di termocuppia di tipu K hè affidabile è precisu à alte temperature.
U filu di termocuppia di tipu N hè statu sviluppatu per furnisce una vita più longa, una esposizione estesa à alte temperature è una migliore affidabilità di a deriva EMF è di i cambiamenti EMF à cortu termine.
U filu di termocuppia di tipu E offre a più alta putenza EMF per gradu trà tutte e termocuppie citate.
U filu di termocuppia di tipu J hè spessu sceltu per u so bassu costu è l'alta EMF. Pò esse adupratu in cundizioni ossidanti finu à 760 °C. Per temperature più alte, hè cunsigliatu di aduprà diametri di filu più grandi. U filu di termocuppia di tipu J hè adattatu per ossidà, riduce atmosfere inerti, o u vacuum.
U filu di termocuppia di tipu T hè adattatu per l'usu in atmosfere inerti ossidanti, riducenti o in u vacuum.